河北工业大学微电子技术与材料研究所2009年承担了国家中长期科技发展规划02重大专项 “极大规模集成电路平坦化工艺与材料” 项目，经费3265万元，全部为国拨，研制出了多层铜布线系列碱性抛光液，拥有自主知识产权，经美国硅谷技术中心、台湾平坦化协会、中芯国际（北京）等研究机构和大生产线评估测试，dishing、erosion、粗糙度、一致性、抛光速率、电参数等多项参数达到或超过了国际上主流产品的水平。
该项目的研发成功为65nm及其以下节点碱性抛光液产业化奠定了良好基础。目前，该团队又在承担20-14nm前瞻性多层布线碱性CMP抛光液与碱性清洗剂研发项目。同时正在争取下一期02重大专项的滚动支持。